快速热处理退火炉，半导体RTP快速退火 炉可用于硅及其他化合物材料离子注入后的退火，硅化物形成，欧姆接触制备以及快速氧化，快速氮化等方面。该设备具有很好的长时间工作稳定性以及快速升降温，慢速升降温功能
不锈钢无尘烤箱，双层无尘烘箱应用于目前关键的半导体电子行业（如硅片干燥，坚膜烘烤，装片机后道烘烤，塑封后烘烤，治具烘烤等），另外，双层无尘烘箱还在尝贰顿制造行业中用于烘烤玻璃基板、无机材料行业中用于材料高精度工序。
无氧烘箱，无氧化烘箱在半导体集成电路制造过程中，晶圆表面预处理、涂胶、曝光前后的烘焙即曝光后烘烤（Post Exposure Bake，PEB）、对准、显影、显影后烘焙等因素都会对光刻工艺效果带来显著影响
