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    快速热处理退火炉,半导体RTP快速退火 炉可用于硅及其他化合物材料离子注入后的退火,硅化物形成,欧姆接触制备以及快速氧化,快速氮化等方面。该设备具有很好的长时间工作稳定性以及快速升降温,慢速升降温功能
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    更新日期

    2025-09-16
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