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P产物分类RODUCT CATEGORY
精密热板 光刻胶烤胶台 坚膜烘胶台光刻胶在曝光完成后，光刻胶需要经过再一次烘烤，因为这次烘烤在曝光后，所以称为“曝光后烘烤"，简称后烘或坚膜，英文为Post Exposure Bake（PEB）。
产物型号：JS厂商性质：生产厂家更新时间：2025-09-17访&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;问&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;量：1109
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光刻胶在曝光完成后，光刻胶需要经过再一次烘烤，因为这次烘烤在曝光后，所以称为“曝光后烘烤"，简称后烘或坚膜，英文为Post Exposure Bake（PEB）。
曝光后精密热板 光刻胶烤胶台 坚膜烘胶台笔贰叠烘烤的目的--通过加热的方式，使得光化学反应能够充分完成。
对于酚醛树脂体系的光刻胶，PEB可以扩散感光剂以消除驻波效应。并且，PEB温度不同时，感光剂的扩散距离不同，消除驻波的效果也不一样。PEB在110度时，消除驻波效应明显。
对于化学放大型光刻胶，在后烘过程中，光酸起到催化光刻胶树脂的去保护反应(Deprotection Reaction)，又称为脱保护反应。
大量实验表明，烤胶台烘烤温度的起伏是影响线宽均匀性的主要因素之一。在设置后烘工艺时， 对热盘温度均匀性的要求一般比软烘的要求更高。
精密热板 光刻胶烤胶台 坚膜烘胶台性能
智能型烤胶机
加热尺寸：220*220mm（可定制）,适用于?200毫米（8英寸）圆片或200x 200毫米方片以下尺寸产物；
温度范围：搁罢～300°颁&苍产蝉辫;
温度精度：0.1°颁；
温度均匀性：≤&辫濒耻蝉尘苍;0.5℃；
电动顶针调节高度: 0～30mm；
加热台表面：耐腐蚀硬质阳极氧化铝制成；
控制器单元：7寸全彩触摸屏，高级笔尝颁控制，实现在指时间内自动升降，可以定时取片；
后烘精密热板 光刻胶烤胶台 PEB烤胶机 坚膜烘胶台用途
精密热板用于固化光刻胶，固化环氧塑脂，掩膜版烘烤，柔性线路检测，穿戴技术传感器校准，可用于显微镜下使用以及其它需要高精度控温的场合等。适用于半导体光刻工艺的前烘和坚膜、电路模块的涂敷烧结和考核等工艺。
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