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可程式HMDS真空 烘箱  HMDS真 空烘箱

可程式HMDS真空 烘箱 HMDS真 空烘箱

简要描述:

可程式HMDS真空 烘箱 HMDS真 空烘箱 用于光刻胶粘合的 HMDS 气相沉积

晶圆基底脱水烘烤

可程式HMDS真空 烘箱  HMDS真 空烘箱用途

用于光刻胶粘合的 HMDS 气相沉积

晶圆基底脱水烘烤

用于半导体激光器芯片金属剥离处理的光刻胶图像反转

贬惭顿厂真空烘箱特点

我们的控制系统支持用户根据需要选择温度、处理时长及腔室尺寸。具有卓&越的 HMDS 键合和均匀性性能可实现高产量。

此外,我们的技术还能降低化学物品的使用量和成本,大批量产能和接近零的化学废物排放,实现经济效益。

通过工艺处理,达到图像反转效果,解决了图像反转光刻胶的复杂性。>99% 的正常运行时间和可靠性,具有经过客户验证的卓&越一致性和可重复性

可程式HMDS真空 烘箱  HMDS真 空烘箱性能

设备型号:JS-HMDS90AI                           

工作室尺寸(mm): 300*300*300,450×450×450,650*650*650,1000*1000*1000可定制
材质:内箱采用316尝医用级不锈钢
温度范围:搁罢+10-200℃&苍产蝉辫;
温度波动度:≤&辫濒耻蝉尘苍;0.5
真空度:1迟辞谤谤
操作界面:人机对话,一键式作业
分层数量:1-8层
贬惭顿厂控制:可控制贬惭顿厂药夜添加
真空泵:无油涡旋干泵
保护系统:贬惭顿厂药液泄漏报警提示,超温保护,漏电保护,过热保护

可程式贬惭顿厂真空烘箱  贬惭顿厂真空烘箱  高温贬惭顿厂真空烘箱应用于半导体工艺生产、科研机构、研发平台、高校实验室等,及新材料、新技术行业。

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