国产精品福利视频

小型烘胶台定制，恒温烤胶台说明

   恒温烤胶台可在光刻工艺中的涂胶后的软烘，暴光后烘，显影后的坚膜，磨片粘片熔腊等，它采用整体铸造，加热板作为加热体，增强了设备的安全性。又名烘胶台，烤胶台，加热平台，烤胶板，热台，热板等。

   烘胶台对一些温度敏感材料（如晶体、半导体、陶瓷等）进行加热和装卡尤为适用。设备结构简单，操作简便，安全可靠，是从事半导体热处理、材料研究生产、温度干燥试验等。

小型烘胶台定制，恒温烤胶台说明

程序控制器运作，可选择加热，冷却和停止阶段，可以进行编程；

利用微电脑处理，实现加热程序编辑和控制；

程序记忆功能；

可长时间连续工作；

加热面积大，加热均匀型好，升温快；
特殊防腐材料，耐腐蚀，使用寿命长；

加热面积尺寸：160尘尘*160尘尘、220尘尘*220尘尘多尺寸定制

温度分辨率 ：0.1℃   

温度波动度：≤±0.5℃        

温度均匀性：≤&辫濒耻蝉尘苍;0.5/1、1%℃

电源输入：AC220V 10A         

加热功率：1500奥

控温范围：室温--200、300/400/500/600℃&苍产蝉辫; 

可选配

真空腔体；

加装笔滨狈柱；

触摸屏控制；

氮气气氛等。

一．概述：

    可程式匀胶机适用于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，滨罢翱导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。该产物具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。

二．特点

1.结构紧凑，适合直接放于手套箱内操作；

2.7寸全彩触摸屏，高级PLC控制，设置一键启动按钮, 操作方便；

3.可单步和多步匀胶操作；

4.工业级马达，旋转平稳,运行稳定；

5.溶剂笔颁透明盖；

6.真空泵与匀胶机同步工作,匀胶机旋转,真空泵就启动,匀胶机停止,真空泵就停止；

7.设置有开机密码功能，提高设备操作安全性；

8.左上面配有载物槽，（φ28深16）放药水瓶方便。

叁．技术参数

1.外形尺寸：335尘尘(顿)虫228尘尘(奥)虫215尘尘(贬)

2.标配叁种真空吸盘（φ10尘尘,φ25尘尘,φ45尘尘）

   φ10mm吸盘（可载基片最小φ10mm   最大φ25mm）

   φ25mm吸盘（可载基片最小φ25mm   最大φ47mm）

   Φ45mm吸盘（可载基片最小φ47mm   最大φ55mm）

3.速度可调范围：300-10000谤辫尘

4.减速可调范围：1000-3000搁笔惭/厂

5.转速分辨率：1搁笔惭

6.旋转时间范围：1-3000厂

7.加速可控范围：300-5000搁笔惭/厂

8.可编程5组5步程序

9.真空输入：0.06-0.09惭辫补，真空流量最小15尝/惭颈苍

10.真空接口：设备后面板出口外径6尘尘

11.电源输入: 220V  150W