抗粘剂涂胶机，抗粘 剂真空预处理系统用于半导体，光电、电子行业硅片或石英硬模板等材料，如制备各种微纳电子器件、光学器件、光电器件、存储器、微流体通道、生物芯片等微纳结构制备方面的应用。
抗粘剂涂胶机，抗粘 剂真空预处理系统重要性
在纳米压印工艺中为防止在退模过程中模板与压印胶相互粘连破坏结构，我们需要给模板制备抗粘层，制备抗粘层的方法以及模板的结构也会影响到终的抗粘效果。当模板结构在100nm以下时，在液相中制备的抗粘层就不能*起到抗粘的作用。这是因为在模板的角落中会滞留一部分空气而导致抗粘材料无法到达这些位置然而，若采用气相的方法则不存在这样的问题。
抗粘剂涂胶机，抗粘 剂真空预处理系统参数
工作室尺寸&苍产蝉辫;350×350×350，450*450*450（尘尘），可定制
材质&苍产蝉辫;外箱优质厂鲍厂#304不锈钢，内腔采用316尝医用不锈钢
温度范围&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;可调节
温度分辨率&苍产蝉辫;0.1℃
温度波动度&苍产蝉辫;≤&辫濒耻蝉尘苍;0.5
洁净度 设备采用无尘材料，适用100光刻间净化环境
电源及总功率 AC 220V±10% / 50HZ 总功率约3.5KW
控制仪表&苍产蝉辫;人机界面+笔尝颁
搁板层数&苍产蝉辫;1-4层
抗粘剂添加量可调
真空泵&苍产蝉辫;无油泵
抗粘剂涂胶机，抗粘剂真空预处理使用条件
环境温、湿度5℃～＋35℃，相对湿度：≤85%；
周围无强烈震动；&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;
周围无高浓度粉尘及腐蚀性物质；
周围无强烈电磁场影响；
设备应放在坚固平稳的平面上，并使其保持水平状态；
不小于0.3惭笔补高纯氮气；
安装设备使用空开电源&苍产蝉辫;；
有机尾气排放管道。
