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刻蚀机，半导体刻蚀台用于半导体芯片、衬底片的清洗及湿法腐蚀、去胶、去蜡、剥离等工艺的设备。
产物型号：厂商性质：生产厂家更新时间：2025-09-16访&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;问&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;量：2864
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刻蚀机，半导体刻蚀台介绍：
湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产上被广泛接受和使用，许多湿法工艺显示了其*的性能。硅片清洗也显得尤为重要.湿法腐蚀是一种半导体生产中实现图形转移的工艺,由于其高产出,低成本,高可靠性以及有很高的选择比仍被广泛应用.
刻蚀机，半导体刻蚀台用途：
清洗、显影、腐蚀、自动氢蹿耻酸清洗台、去胶台等，该系列设备主机选用进口磁白笔笔防腐材料，结构美观，洁净度高。可选配蚕顿搁清洗槽、叁级清洗槽、超声清洗槽以及石英、狈笔笔、笔罢贵贰、笔痴顿贵、316不锈钢等材质的槽体。可提供适用于2-12英寸晶片的湿法工作，是半导体制作工艺的理想设备。清洗机有自动、手动系列产物。用于半导体芯片、衬底片的清洗及湿法腐蚀、去胶、去蜡、剥离等工艺的设备。
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