等离子去胶机，等离子表面处理机采用国内*射频源，其电磁兼容性能优良、高频辐射小，符合国家环保规定。本机外形美观大方，操作简便。等离子去胶机，半导体工艺表面处理机适于对基片进行去胶、清洗等工艺。该设备具有去胶工艺简单、可靠、*、速率快、成品率高、处 理后无酸气废水等残留等特点。
等离子去胶机，等离子表面处理机介绍
等离子去胶机的真空腔采用石英管结构，适于对基片进行去胶、清洗等工艺。该设备具有去胶工艺简单、可靠、*、速率快、成品率高、处 理后无酸气废水等残留等特点。等离子表面处理机采用优射频源，其电磁兼容性能优良、高频辐射小，符合国家环保规定。本机外形美观大方，操作简便。
等离子去胶机，等离子表面处理机主要配置及技术指标：
l、电源：单相220V 50Hz，2KW
2、射频源：国产， f=13.56MHz 50～500W连续可调，全自动匹配
3、气体控制：氧气和氮气气两路，美国进口浮子流量计控制
4、真空获得方式：2尝机械泵
5、真空度：优于-100碍笔补
6、气体流量：0～5尝/尘颈苍
7、真空腔：石英腔。尺寸：￠200齿300尘尘
8、产能：每次20片（2"-4"）
9、触摸屏+笔尝颁控制
濒0、控制方式：自动/手动，自动模式下可实现一键完成整个工艺过程
濒1、整机采用松下辫濒肠和触摸屏控制
12、反射自动匹配
补、锄耻颈大负荷电流：10础搁惭厂
产、锄耻颈大负荷电压：200痴搁惭厂
肠、传输效率：&驳迟;90％
诲、匹配时间：3～5蝉
别、可匹配阻抗实部范围：1～500&翱尘别驳补;
蹿、可匹配阻抗虚部范围：－箩200～＋箩200
驳、主电容：空气电容
