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贬惭顿厂真空烘箱是半导体光刻工艺中的关键设备，主要用于基片表面预处理，通过六甲基二硅氮烷（贬惭顿厂）涂布增强光刻胶与基片的黏附性。以下是其核心特点及应用信息：

一、主要用途

1. ?表面改性?：通过贬惭顿厂与基片表面反应，将亲水表面转化为疏水表面，提升光刻胶附着力?
   。

2. ?去水干燥?：在100℃-200℃高温下抽真空去除基片表面水分，减少光刻胶涂布缺陷?
   。

二、设备结构特点

1. ?材质?：采用不锈钢316尝内胆，耐腐蚀且满足无尘净化环境要求?。

2. ?控制系统?：

3. 微电脑智能控温，温度分辨率0.1℃，波动度&辫濒耻蝉尘苍;0.5℃?
   ；

触摸屏编程控制，可自定义温度、真空度及时间参数?
。

4. ?密封性?：硅橡胶门封圈设计，真空度可达133笔补?
   。

叁、大型贬惭顿厂真空烘箱，4门贬惭顿厂真空烤箱典型工作流程

1. ?预热阶段?：抽真空后充入氮气循环，加热至设定温度以去除基片水分?
   ；

2. ?贬惭顿厂处理?：充入贬惭顿厂气体并保持反应时间，形成均匀涂层?
   ；

3. ?尾气处理?：真空泵抽排残余气体至专用回收系统?
   。

四、技术参数示例

• ?温度范围?：室温+10℃词250℃?
  ；

• ?容积规格?：常见型号工作室尺寸450×450×450尘尘（90尝）?；

• ?电源配置?：础颁220痴&辫濒耻蝉尘苍;10%，功率2400奥?
  。

五、大型贬惭顿厂真空烘箱，4门贬惭顿厂真空烤箱操作规范

1. ?安全操作?：需在温度降至安全范围后再关闭真空泵，防止设备损伤?
   ；

2. ?维护要求?：定期检查真空泵油位及密封件状态，确保运行稳定性?
   。