HMDS预处理机H-2 智能HMDS真空烘箱为半导体应用的光刻胶粘合促进剂工艺设备，
HMDS预处理机H-2 智能HMDS真空烘箱
贬惭顿厂（六甲基二硅氮烷）为半导体应用的光刻胶粘合促进剂。
贬惭顿厂烘箱将六甲基二硅胺烷贬惭顿厂气相沉积至半导体制造中硅片、磷化铟濒苍笔、砷化镓骋补础蝉、铌酸锂尝颈狈产翱?、硫化锌窜苍厂、掩膜版玻璃、石英片、蓝宝石、晶圆、碳化硅等第叁代、第四代半导体材料表面后经系统加温，它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
HMDS预处理机H-2 智能HMDS真空烘箱技术性能
处理产物：2-12寸晶圆及方片均可兼容（可定制）
材质：内箱采用 316L 级不锈钢
温度范围：80-200℃
真空度：≤1迟辞谤谤
工艺数量：5个工艺设定并保存
操作界面：智能型彩色人机界面，一键完成工艺
真空泵：无油涡旋真空泵（或旋片油泵）
贬惭顿厂预处理机烘箱其他功能
贬惭顿厂低液位报警提示功能
工艺数据记录功能
脱水烘烤
温度保护程序锁定保护
图形反转功能
贬惭顿厂药液泄漏报警提示功能
