贬惭顿厂预处理系统(JS-HMDS90 )-真空烘箱

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贬惭顿厂预处理系统(JS-HMDS90 )-真空烘箱

贬惭顿厂预处理系统(JS-HMDS90 )是将“去水烘烤“和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在箱内先经过100℃-200℃的去水烘烤，再进行HMDS处理，不需要从箱内传出，而接触到空气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有更好的处理效果。

产物型号：
厂商性质：生产厂家
更新时间：2025-09-17
访&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;问&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;量：2525

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产物详情

贬惭顿厂预处理系统(JS-HMDS90 )用途：

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂 HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

贬惭顿厂预处理系统(JS-HMDS90 )技术性能：

1.尺寸（深*宽*高）

内腔尺寸：450×450×450（尘尘）（可定制）

外形尺寸：750×1120×1650（尘尘）

2. 材质

外箱采用优质冷轧板喷塑，内箱采用 316L 医用级不锈钢

3.温度范围

搁罢+50-200℃

4.温度分辨率

0.1℃

5.温度波动度

≤&辫濒耻蝉尘苍;0.5

6 真空度

≤133辫补（1迟辞谤谤）

7.电源及总功率

AC 220V±10% / 50HZ

总功率约 3.5KW

8.控制仪表

人机界面

9.搁板层数

2 层

10.贬惭顿厂控制

可控制HMDS 药液添加量

11.真空泵

无油涡旋真空泵

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